在半導(dǎo)體封裝行業(yè)中，由于對其產(chǎn)品精密性的特殊要求，使得比之在常規(guī)的電子產(chǎn)品中對等離子清洗機(jī)的等離子均勻性、Particle數(shù)量、UPH等指標(biāo)要求更高，一般要求在低壓（真空）狀態(tài)下進(jìn)行等離子清洗，而在等離子清洗機(jī)當(dāng)中經(jīng)過進(jìn)行數(shù)據(jù)參數(shù)的修改，我們?nèi)钥煽吹皆诎雽?dǎo)體封裝行業(yè)當(dāng)中等離子清洗機(jī)起到的重要作用。

半導(dǎo)體封裝行業(yè)用到的等離子清洗機(jī)一般可按如下方式分類：

1、按等離子清洗設(shè)備的運(yùn)行方式：分為獨(dú)立式等離子清洗機(jī)和在線式等離子清清洗機(jī)

①獨(dú)立式（又叫離線式、單體式、批量式等）等離子清洗機(jī)的主要結(jié)構(gòu)包括：真空腔體（包含電極；又叫反應(yīng)腔、反應(yīng)倉、反應(yīng)室等）、設(shè)備外殼、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。

②在線式（又叫連續(xù)式、不間斷式等）等離子清洗機(jī)主要結(jié)構(gòu)包括：上下料推送機(jī)構(gòu)、上下料放置平臺(tái)、上下料提升系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料機(jī)構(gòu)、真空腔體、設(shè)備主體框架、電氣控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、等離子發(fā)生器（包括電源和匹配器）和真空系統(tǒng)。

其中在線式等離子清洗機(jī)是在獨(dú)立式的基礎(chǔ)上，為滿足對表面處理均勻性、一致性品質(zhì)的要求，并兼具自動(dòng)化特點(diǎn)，減少人工參與等需要設(shè)計(jì)而成。

2、按等離子產(chǎn)生的激勵(lì)方式分為：電容耦合（CCP）、感應(yīng)耦合（ICP）和電子回旋共振（ECR）等。

3、按等離子發(fā)生器的工作頻率來分：中頻（又叫低頻、超聲40?100KHz），高頻（又叫射頻13.56MHz），微波（2.45GHz）

在這里我們所指的不同頻率激發(fā)的等離子體特性和能量是不一樣的，對于側(cè)重物理清洗的產(chǎn)品，用中頻等離子清洗設(shè)備比較合適。而側(cè)重化學(xué)清洗的產(chǎn)品，則會(huì)采用微波等離子清洗設(shè)備。至于化學(xué)物理反應(yīng)兼顧的，我們就會(huì)建議使用射頻等離子清洗設(shè)備。當(dāng)然，等離子激發(fā)頻率只是等離子產(chǎn)生的核心因素之一，等離子清洗設(shè)備的電極結(jié)構(gòu)、工藝氣體、真空度、處理時(shí)間等等，也同樣是影響清洗效果的關(guān)鍵。